书目信息

书名： 碳化硅技术基本原理 
作者： 木本恒畅 ， 库珀 著 ；夏经华 译
出版信息： 北京   机械工业出版社  2018.05
开本页数： 24cm  XIII, 500页
丛书名： 新型电力电子器件丛书
单 册：
中图分类： TQ174.75 ， TQ174
科图分类：
主题词： 碳化硅陶瓷--tan hua gui tao ci , 陶瓷工业
电子资源：
ISBN： 978-7-111-58680-7
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    碳化硅技术基本原理：生长、表征、器件和应用/(日) 木本恒畅, (美) 詹姆士A.库珀著= Fundamentals of silicon carbide technology：growth, characterization, devices, and applications/Tsunenobu Kimoto, James A. Cooper/夏经华 ... [等] 译.-北京：机械工业出版社，2018.05
    XIII, 500页：图；24cm.-(新型电力电子器件丛书)
    
    
    ISBN 978-7-111-58680-7(/)：CNY 150.00
    本书是一本有关碳化硅材料、器件工艺、器件和应用方面的书籍, 其主题包括碳化硅的物理特性、晶体和外延生长、电学和光学性能的表征、扩展缺陷和点缺陷, 器件工艺、功率整流器和开关器件的设计理念, 单/双极型器件的物理和特征、击穿现象、高频和高温器件, 以及碳化硅器件的系统应用, 涵盖了基本概念和新发展现状, 并针对每个主题做深入的阐释, 包括基本的物理特性、新的理解、尚未解决的问题和未来的挑战。
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正题名：碳化硅技术基本原理     索取号：TQ174/2         预约/预借

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